Thuis

de oven van de sinterheup

Gasdruk Sinterende Oven

Vacuüm Sinterende Oven

MIM sinterende Oven

metaal sinterende oven

industriële vacuümoven

Vacuümoven op hoge temperatuur

Vacuümthermische behandelingsoven

ceramische sinterende oven

Hoge Vacuümoven

Sinterende Oventoebehoren

De Oven van het siliciumcarbide

CVD-Deklaagmachine

Vacuüm hete persoven

zinksmeltoven

Over ons

Profiel van het bedrijf

Fabriekstocht

Kwaliteitscontrole

Neem contact met ons op

dutch

english

français

Deutsch

Italiano

Русский

Español

português

Nederlandse

ελληνικά

日本語

한국

العربية

हिन्दी

Türkçe

indonesia

tiếng Việt

ไทย

বাংলা

فارسی

polski

Ik raad deze video's aan.

AICL3 Voorlopers Chemische stoomdepositooven voor snijgereedschappen bij een procestemperatuur van 700 tot 1050 °C

00:22

AICL3 Voorlopers Chemische stoomdepositooven voor snijgereedschappen bij een procestemperatuur van 700 tot 1050 °C

HTCVD Silicon Carbide CVD SIC Epitaxy Growth Furnace Meerdere temperatuurcontrolezones

00:33

HTCVD Silicon Carbide CVD SIC Epitaxy Growth Furnace Meerdere temperatuurcontrolezones

Hoogtemperatuur-vacuüm-damp-afzettingsoond met een maximumtemperatuurbereik van 1100 °C

00:34

Hoogtemperatuur-vacuüm-damp-afzettingsoond met een maximumtemperatuurbereik van 1100 °C

Temperatuurlaagkamer met legering Elektrische weerstand Verwarming CVD-oven voor metalen of keramische ondergronden met aanpasbare grootte

00:28

Temperatuurlaagkamer met legering Elektrische weerstand Verwarming CVD-oven voor metalen of keramische ondergronden met aanpasbare grootte

Kant-en-klaar project van gecementeerd/wolfraamcarbide snijgereedschap met intelligente gasdruksinteroven

00:35

Kant-en-klaar project van gecementeerd/wolfraamcarbide snijgereedschap met intelligente gasdruksinteroven

Sinteren met 50Hz verwarmingsvermogen MIM sinteroven in vacuümoven ontwerp

00:36

Sinteren met 50Hz verwarmingsvermogen MIM sinteroven in vacuümoven ontwerp

Herhaling

Volgende video

Geavanceerde CVD/CVI-stofafzettingstooven voor TiC-TiN-TiCN-a-AL2O3 en K-AI2O3-coating bij een procestemperatuur van 700-1050 °C

CVD-Deklaagmachine

2025-09-08

1788 Meningen

Contact opnemen

Deel

#Geïntegreerde CVD-Deklaagmachine #Slijtvaste CVD-Deklaagmachine #CNC de Deklaagmateriaal van CVD van Carbidehulpmiddelen

TiC/TiN/TiCN/Al2O3-coating CVD-oven CVD-coatingmachine is een state-of-the-art vacuümcoatingtechniek, waarbij chemische afzettingstoestellen worden gebruikt om een dunne laag materiaal op het ... Bekijk meer

Berichten van bezoekers Laat een bericht achter.

Geavanceerde CVD/CVI-stofafzettingstooven voor TiC-TiN-TiCN-a-AL2O3 en K-AI2O3-coating bij een procestemperatuur van 700-1050 °C

Geavanceerde CVD/CVI-stofafzettingstooven voor TiC-TiN-TiCN-a-AL2O3 en K-AI2O3-coating bij een procestemperatuur van 700-1050 °C

Contact opnemen

Meer informatie

Verwante Video's

AICL3 Voorlopers Chemische stoomdepositooven voor snijgereedschappen bij een procestemperatuur van 700 tot 1050 °C

AICL3 Voorlopers Chemische stoomdepositooven voor snijgereedschappen bij een procestemperatuur van 700 tot 1050 °C

AICL3 Voorlopers Chemische stoomdepositooven voor snijgereedschappen bij een procestemperatuur van 700 tot 1050 °C

CVD-Deklaagmachine

HTCVD Silicon Carbide CVD SIC Epitaxy Growth Furnace Meerdere temperatuurcontrolezones

HTCVD Silicon Carbide CVD SIC Epitaxy Growth Furnace Meerdere temperatuurcontrolezones

HTCVD Silicon Carbide CVD SIC Epitaxy Growth Furnace Meerdere temperatuurcontrolezones

CVD-Deklaagmachine

Hoogtemperatuur-vacuüm-damp-afzettingsoond met een maximumtemperatuurbereik van 1100 °C

Hoogtemperatuur-vacuüm-damp-afzettingsoond met een maximumtemperatuurbereik van 1100 °C

Hoogtemperatuur-vacuüm-damp-afzettingsoond met een maximumtemperatuurbereik van 1100 °C

CVD-Deklaagmachine

Temperatuurlaagkamer met legering Elektrische weerstand Verwarming CVD-oven voor metalen of keramische ondergronden met aanpasbare grootte

Temperatuurlaagkamer met legering Elektrische weerstand Verwarming CVD-oven voor metalen of keramische ondergronden met aanpasbare grootte

Temperatuurlaagkamer met legering Elektrische weerstand Verwarming CVD-oven voor metalen of keramische ondergronden met aanpasbare grootte

CVD-Deklaagmachine

Kant-en-klaar project van gecementeerd/wolfraamcarbide snijgereedschap met intelligente gasdruksinteroven

Kant-en-klaar project van gecementeerd/wolfraamcarbide snijgereedschap met intelligente gasdruksinteroven

Kant-en-klaar project van gecementeerd/wolfraamcarbide snijgereedschap met intelligente gasdruksinteroven

Gasdruk Sinterende Oven

Sinteren met 50Hz verwarmingsvermogen MIM sinteroven in vacuümoven ontwerp

Sinteren met 50Hz verwarmingsvermogen MIM sinteroven in vacuümoven ontwerp

Sinteren met 50Hz verwarmingsvermogen MIM sinteroven in vacuümoven ontwerp

Vacuümthermische behandelingsoven

Vacuümoven Type Druk Sinteroven in grijze verfkleur voor geavanceerd sinteren

Vacuümoven Type Druk Sinteroven in grijze verfkleur voor geavanceerd sinteren

Vacuümoven Type Druk Sinteroven in grijze verfkleur voor geavanceerd sinteren

Vacuümthermische behandelingsoven

Aanpasbare kamergrootte Vacuüm Hoogdrukoven voor precieze warmtebehandeling

Aanpasbare kamergrootte Vacuüm Hoogdrukoven voor precieze warmtebehandeling

Aanpasbare kamergrootte Vacuüm Hoogdrukoven voor precieze warmtebehandeling

industriële vacuümoven

1-10 MPa gasdruk Druksinteroven voor droog vacuümsinter in vacuümgraad

1-10 MPa gasdruk Druksinteroven voor droog vacuümsinter in vacuümgraad

1-10 MPa gasdruk Druksinteroven voor droog vacuümsinter in vacuümgraad

de oven van de sinterheup

Geavanceerde vacuümbraasoven voor AMB-binding van keramische ondergronden bij 1200 °C

Geavanceerde vacuümbraasoven voor AMB-binding van keramische ondergronden bij 1200 °C

Geavanceerde vacuümbraasoven voor AMB-binding van keramische ondergronden bij 1200 °C

Vacuümoven op hoge temperatuur

Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity

Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity

Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity

de oven van de sinterheup

5518 Onderdrukte sinteroven voor siliciumnitride / aluminiumnitride / siliciumcarbide

5518 Onderdrukte sinteroven voor siliciumnitride / aluminiumnitride / siliciumcarbide

5518 Onderdrukte sinteroven voor siliciumnitride / aluminiumnitride / siliciumcarbide

Gasdruk Sinterende Oven

Hoog energie-efficiëntie gas-sintrooven onder druk voor een uniforme temperatuur atmosfeer en snelle koeling

Hoog energie-efficiëntie gas-sintrooven onder druk voor een uniforme temperatuur atmosfeer en snelle koeling

Hoog energie-efficiëntie gas-sintrooven onder druk voor een uniforme temperatuur atmosfeer en snelle koeling

Gasdruk Sinterende Oven

HIP-oven met horizontale vacuümsint met snelle afkoeling met een druk van 10mpa, maximale werktemperatuur van 1800 °C.

HIP-oven met horizontale vacuümsint met snelle afkoeling met een druk van 10mpa, maximale werktemperatuur van 1800 °C.

HIP-oven met horizontale vacuümsint met snelle afkoeling met een druk van 10mpa, maximale werktemperatuur van 1800 °C.

metaal sinterende oven

Grafietverwarmingselement Hoogtemperatuur Vacuümoven Ontwerpstemperatuur 1200-2500°C Aanpasbaar voor 10-15T capaciteit

Grafietverwarmingselement Hoogtemperatuur Vacuümoven Ontwerpstemperatuur 1200-2500°C Aanpasbaar voor 10-15T capaciteit

Grafietverwarmingselement Hoogtemperatuur Vacuümoven Ontwerpstemperatuur 1200-2500°C Aanpasbaar voor 10-15T capaciteit

Vacuümoven op hoge temperatuur