chemical vapor deposition cvd coating furnace

Thuis >

chemical vapor deposition cvd coating furnace Online fabrikant

Alle producten

de oven van de sinterheup

(141)

Gasdruk Sinterende Oven

(61)

Vacuüm Sinterende Oven

(75)

MIM sinterende Oven

(49)

metaal sinterende oven

(34)

industriële vacuümoven

(34)

Vacuümoven op hoge temperatuur

(26)

Vacuümthermische behandelingsoven

(34)

ceramische sinterende oven

(25)

Hoge Vacuümoven

(21)

Sinterende Oventoebehoren

(5)

De Oven van het siliciumcarbide

(21)

CVD-Deklaagmachine

(33)

Neem contact met ons op

86--16673365810

shirley.xiao@zzrde.com

86-0731-22506328-22506328

Contact opnemen

chemical vapor deposition cvd coating furnace (14) Online fabrikant

Gepersonaliseerde Cvd Lab Vacuümoven Chemische damp afzetting Cvd coating oven

Procestemperatuur (°C): 700 tot en met 1050

Soorten coating: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

Vind de beste prijs

MT-CVD HT-CVD coating furnace met een uitstekende coating kwaliteit en een aanpasbare reactor

Deklaagtemperatuur: 200-1050°C

Koelsysteem: 2 sets watergekoelde condensatvangers met hoge prestaties

Vind de beste prijs

Honeycomb Ceramic CVD Coating Furnace voor 700-1050C-procestemperatuur en optionele gasneutralizator

Procestemperatuur (°C): 700 tot en met 1050

Voorlopers en procesgassen: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Vind de beste prijs

CVD-coatingsoven met co2-voorlopers en gasdistributeur voor de tweede fase

Procestemperatuur (°C): 700 tot en met 1050

Voorlopers en procesgassen: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Vind de beste prijs

Chemische stoomdepositie-coatingoven met TiCL4, AICL3-voorlopers en procesgassen

Procestemperatuur (°C): 700 tot en met 1050

Voorlopers en procesgassen: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Vind de beste prijs

Chemische stofafzettingsoond voor het snijgereedschap voor gecementiseerd/wolframcarbide

Procestemperatuur (°C): 700 tot en met 1050

Voorlopers en procesgassen: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Vind de beste prijs

Video

RDE Silicon Carbide Coating Machine CVD Chemische stofafzettingsoond

Effectieve ruimte ((mm): 1000*1000*1500

Verwarmingsvermogen ((KVA): 300

Vind de beste prijs

CVD-coatingoven voor siliconcarbide voor grafietgevoeligheid of etseringsring

Verpakking Details: houten behuizingen

Levertijd: 5-6 maanden

Vind de beste prijs

Geavanceerde CVD/CVI-stofafzettingstooven voor TiC-TiN-TiCN-a-AL2O3 en K-AI2O3-coating bij een procestemperatuur van 700-1050 °C

Procestemperatuur (°C): 700 tot en met 1050

Soorten coating: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

Vind de beste prijs

Chemische stofafzettingstooven voor snijgereedschappen

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Vind de beste prijs

Video

China CVD Oven Manufactures, Silicon Carbide Coating Machine

Effectieve ruimte ((mm): 1000*1000*1500

Verwarmingsvermogen ((KVA): 300

Vind de beste prijs

TiC/TiN/TiCN/a-Al2O3/k-Al2O3 coatings CVD-oven met temperatuurregeling 700-1050°C

Verwarmingszone: 4 stuks/5 stuks

Maximumtemperatuur:: 1100℃

Vind de beste prijs

Video

1500C CVD SIC Epitaxy-groeioven voor siliciumcarbide-groei in 100010001500mm effectieve ruimte

Effectieve ruimte ((mm): 1000*1000*1500

Verwarmingsvermogen ((KVA): 300

Vind de beste prijs

CVD-oven met aanpasbare TiC/TiN/TiCN/Al2O3-coating met een procestemperatuur van 700-1050 °C

Procestemperatuur (°C): 700 tot en met 1050

Soorten coating: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

Vind de beste prijs

Stuur uw vraag rechtstreeks naar ons