Temp.of deposition((℃): 900-1050
Process pressure(mbar): 100-300
Process temperature((℃): 700-1050
Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Voorlopers en procesgassen: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S
Verpakkingssubstraten: Metalen, keramische, glazen, enz.
Beschermingsmethode: Chemische dampafzetting (CVD)
Totaal vermogen: Ongeveer 40/50/60/80 kW
Voorlopers en procesgassen: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S
Grootte van de coatingapparatuur: Aanpasbaar
Totaal vermogen: Ongeveer 40/50/60/80 kW
Verpakkingssubstraten: Metalen, keramische, glazen, enz.
Verpakkingssubstraten: Metalen, keramische, glazen, enz.
Coatingadhesie: Sterk
Procestemperatuur (°C): 700 tot en met 1050
Voorlopers en procesgassen: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Procestemperatuur (°C): 700 tot en met 1050
Voorlopers en procesgassen: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Procestemperatuur (°C): 700 tot en met 1050
Voorlopers en procesgassen: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Procestemperatuur (°C): 700 tot en met 1050
Voorlopers en procesgassen: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Procestemperatuur (°C): 700 tot en met 1050
Soorten coating: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
Procestemperatuur (°C): 700 tot en met 1050
Soorten coating: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
Procestemperatuur (°C): 700 tot en met 1050
Soorten coating: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
Max.werktemperatuur ((°C): 1300
Temperatuuruniformiteit ((°C): ≤ ± 7
Effectieve ruimte ((mm): 1000*1000*1500
Verwarmingsvermogen ((KVA): 300
Stuur uw vraag rechtstreeks naar ons